マランツエレクトロニクスグループ

EMS事業

実装技術と設備
高密度実装
最先端表面実装機を備え、高密度、高スループット生産体制を備えています。

電子ユニットや電子デバイスのミニチュアライズに対応するため、積極的な設備投資を行っており0.1mmピッチ、0603chip、QFPタイプ / BGAタイプ / CSPタイプのICに対応しています。 また、生産変動に対応可能な実装機を選定することにより、多種多様な基板組立てが可能です。

高密度実装
大型基板実装
各工程へ高い技術が要求される超大型基板対応ラインを有しております。

半導体試験装置等に使用される大型マルチレイヤーボード(多層プリント配線板)。 その基板組立に対応する実装ラインを有しております。そのラインには、大型基板対応3D・SPIおよび10ゾーンN2リフロー、8ゾーンAirリフローを有しており、安定した品質提供および資材の有効活用が可能となっております。

大型基板実装
ディスクリート挿入
基板組立の先駆けである挿入工程。大型ディスクリート部品まで挿入が可能です。

電子デバイスのSMT化が進む中、生産品目によってはアキシャル・ラジアル部品がいまだ現役です。 MEKグループでは、ジャンパー、アキシャルおよび7.5mmピッチラジアル部品まで対応可能な自動挿入機を有しております。

また、各実装ラインには接着剤塗布機も完備。SMT & ディスクリート混載基板の生産ができます。一方、はんだ付け工程では、共晶およびPbフリー用はんだ槽を所有しており、さまざまな種類の基板生産が可能です。

検査
基板外観検査装置メーカー マランツエレクトロニクス グループとしての製造工程。

当然検査装置にて不良流出を阻止
オフラインにてAXI装置も導入し、次工程への不良流出を防ぐ工程作りに努めております。

検査
BGAリワーク
高価な資材を無駄にしません!

裏面電極パッケージ部品のはんだ付け不良に備え、BGAリワーク装置を導入しています。
最大基板サイズは762mm×558mm。高出力ヒーターを備えることにより、多層プリント基板への対応が可能となっております。
また、X線透視による不良確認およびリワーク後の接続確認を行っております。
リワークやX線透視作業のみも承っておりますので、詳細はお問い合わせください。

BGAリワーク
所有設備
各工程ごとに多種多様な製造設備を所有し、お客様のさまざまなご要望にお応えいたします。

前後工程問わず、さまざまな組立装置を有することにより、間口の広い生産対応が可能です。
ガラスエポキシ基板からメタルコア基板、フレキシブル基板まで、高密度・高多層・大型基板各種へ対応いたします。

最先端実装機、幅広い部品対応の挿入機、不良の流出を防ぐ検査装置のほか、不良を生まない生産環境を整えております。

設備 集中管理

生産設備 1号機

  • 印刷機:半田印刷機 SP22P-M
  • ボンド機:ボンド塗布機 BD12S-MR
  • 高速機:高速機 CM88S-M
  • 異形機:異形機 CM95R-M
  • リフロー炉:鉛フリー大気炉  SAR-825
  • 外観検査機:外観検査機 L22X fv-350 (RC22X 接続)
検査機集中管理
RC22X / REP22X

生産設備 2号機

  • 印刷機:半田印刷機 SP18P-L
  • ボンド塗布機:ボンド塗布機 BD12S-MR
  • 高速機:モジュラー機 CM402-M
  • 異形機:異形機 CM301-D
  • 異形機:異形機 DT401-M
  • リフロー炉:鉛フリーN2炉 SNR-825 (N2対応)
  • 外観検査機:半田検査機 L22X fv-350 (RC22X 接続)

生産設備 3号機

  • 印刷機:半田印刷機 SPG NM-EJ6PA
  • 半田検査機:半田印刷検査装置 VP9000L
  • 高速機:モジュラー機 CM402-M
  • 異形機:異形機 NPM-W、NM-EJM7D
  • リフロー炉:鉛フリーN2炉 SNR-825 (N2対応)
  • 外観検査機:外観検査機 L22XCL-350 (キャッチシステム対応)
検査集中管理
キャッチシステム
オフライン外観検査機
U22XFMA-650L 8カメ検査機
(キャッチシステム対応) 

オフライン外観検査機 
U22XFMA-650L 8カメ検査機
(キャッチシステム対応)

オフライン外観検査機
Model22X (2台)

生産設備 4号機 (Lライン)

  • 印刷機:半田印刷機 SPG NM-EJ6PA
  • 半田検査機:半田印刷検査機 VP9000L
  • 高速機:モジュラー機 NPW-W2、NM-EJM7D:QFP 0.4mmピッチ
  • 異形機:異形機 NPW-W2、NM-EJM7D
  • リフロー炉:鉛フリーN2炉:SNR-1050GT (2対応)
  • 外観検査機:外観検査機 U22XFDL-650L (キャッチシステム対応)

生産設備 5号機 (Lライン)

  • 印刷機 半田印刷機 SP80V-L
  • 半田検査機:半田印刷検査装置 VP5200L  
  • 高速機:モジュラー機 CM402-L
  • 異形機:異形機 DT401-F
  • 異形機:異形機 DT401-F
  • リフロー前検査:外観検査機 U22XFDL-650L
  • リフロー炉:鉛フリーN2炉 RN152LL-102-LRR

生産設備 DIP Aライン (有鉛はんだ)

  • スプレーフラクサー MXL-350:対応基板サイズ 45mm - 335mm
  • 自動半田付け装置 HC33-28M:発砲フラックス対応
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生産設備 DIP Bライン (無鉛はんだ)

  • スプレーフラクサー MXL-:対応基板サイズ 50mm - 350mm
  • 自動半田付け装置 SPDⅡ-300
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生産設備 DIP Cライン (無鉛はんだ)

  • スプレーフラクサー MXL-350:対応基板サイズ 50mm - 350mm
  • 自動半田付け装置 TW-350L:N2対応
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周辺機器

  • BGAリワーク装置 RD-500Ⅲ
  • リフローチェッカー RCF-3
  • x線検査機 NEO-690Z
  • ベーキング槽 DN43 × 2台
  • スクリーン洗浄機 AC-A05
  • クリーム飯田攪拌装置
  • LCRメーター
  • マノメーター 
  • 流量計 
  • 実体顕微鏡 × 20台
  • 拡大鏡 (4倍) ×12台 
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